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鍍膜儀的幾大常見鍍膜方式分享

更新時間:2023-06-08  |  訪問量:401
   鍍膜儀是一款多功能型高真空鍍膜系統,用于制備超薄,細顆粒的導電金屬膜和碳膜,以適用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的鍍膜要求。這一款全自動臺式鍍膜儀,包含內置式無油真空系統、石英膜厚監控系統和馬達驅動樣品臺。
  鍍膜儀常見的幾個真空鍍膜方式如下:
  1.磁控濺射鍍膜
  磁控濺射是一種常用的真空鍍膜技術,它利用磁場將靶材料離子化并沉積在基底表面上。這種技術可用于制備金屬、合金、氧化物、硝化物等多種材料的薄膜。該技術具有高沉積速率、較好的均勻性和附著力等優點。
  2.熱蒸發鍍膜
  熱蒸發是一種常用的真空鍍膜方法,它通過加熱固態材料使之升華并沉積在基底表面。這種方法適用于制備高純度金屬、合金、無機化合物、有機材料等各種薄膜。該技術具有沉積速率快、成本低廉等優點,但對材料的熔點、壓力等參數要求較高。
  3.電弧離子鍍膜
  電弧離子鍍膜是一種真空鍍膜技術,它利用高能電弧放電將靶材料離子化并沉積在基底表面上。該技術適合于制備金屬、合金等各種金屬材料的薄膜。這種方法具有沉積速率快、附著力好等優點,但需要較高的操作技能和設備成本。
  4.化學氣相沉積(CVD)鍍膜
  化學氣相沉積是一種真空鍍膜技術,它利用氣態前體分解反應在基底表面上形成薄膜。該技術適用于制備無機、有機材料以及復合材料等各種類型的薄膜。該方法具有沉積速率較快、成膜溫度低、均勻性好等優點,但對前體氣體質量、反應條件等參數要求較高。
  綜上,不同的真空鍍膜方式適用于不同類型的材料和應用需求。在選擇鍍膜方式時,還需考慮諸如成本、工藝難易度、沉積速率、膜質量等因素。
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