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LEICA三離子束切割儀在高通量實驗中的運用
2023-08-08

隨著科技的不斷進步,納米加工和表面改性在許多領域都變得越來越重要。在這些應用中,LEICA三離子束切割儀因其高精度、高速度和高效率而得到廣泛應用。本文將介紹三離子束切割儀在高通量實驗中的運用,以及其在納米加工和表面改性方面的優勢。三離子束切...

  • 2023

    12-6

    徠卡超薄切片機是生物學、醫學和材料科學等領域中常用的實驗設備,用于制備薄片樣品以進行顯微鏡觀察。在超薄切片過程中,對刀是一項至關重要的操作,它直接影響到切片的質量和精度。對刀是指調整刀片與樣品之間的距離,使其達到適當的切割深度。正確的對刀可以確保切片的厚度均勻,提高切片質量;而錯誤的對刀可能導致切片過厚或過薄,影響實驗結果的準確性。接下來就來介紹超薄切片機如何進行對刀:1.準備工作在進行對刀操作之前,需要確保超薄切片機已經安裝調試完畢,刀片已經清潔干凈并安裝在刀座上。此外,還...

  • 2023

    11-2

    掃描電鏡是一種重要的科學儀器,常用于觀察和研究微觀結構。其中一個關鍵組件是鎢燈絲,它是掃描電鏡的電子源。本文將對掃描電鏡鎢燈絲的飽和度分析,以幫助讀者更好地理解掃描電鏡的工作原理。鎢燈絲是一種使用電流使得鎢金屬加熱至高溫的裝置。高溫使鎢金屬發射大量電子,這些電子被加速并聚焦形成電子束。電子束經過對樣品表面進行掃描,并接收返回的信號以圖像化樣品的表面特征。要了解鎢燈絲的飽和度,首先需要明確什么是飽和度。飽和度是指一個設備或系統可以實現的最大性能或輸出水平。在掃描電鏡中,鎢燈絲的...

  • 2023

    10-10

    掃描電鏡是一種常用的高分辨率顯微鏡,主要用于觀察材料的表面形貌和微結構。在掃描電鏡中,能譜(EDS)是一種常見的分析技術,用于確定樣品中元素的成分和含量。為了準確獲得能譜結果,需要進行能譜標樣的放大倍率校正。能譜標樣是已知成分和含量的參考樣品,通常由純元素或已知復合物制備而成。它被用來驗證能譜儀器的性能,并用于生成能譜曲線的標定系數。標定后的能譜曲線可以用來定量分析其他未知樣品中元素的含量。能譜標樣的放大倍率校正的目的是根據不同放大倍率下獲取的信號進行匹配和調整,以確保能譜結...

  • 2023

    9-6

    鍍膜儀是一種常用的實驗設備,用于制備金屬導電膜,廣泛用于電子器件、太陽能電池等領域。然而金屬導電膜的質量受到多種因素的影響。本文將分析鍍膜儀制備金屬導電膜質量的影響因素。1.溶液配方溶液的配方對金屬導電膜的質量具有重要影響。配方中金屬鹽的濃度、還原劑的種類和濃度、絡合劑的選擇等都會影響金屬離子的還原速率和沉積速度,從而影響膜的均勻性和致密性。合理選擇和調整溶液配方是制備高質量金屬導電膜的關鍵。2.沉積參數沉積參數包括鍍液溫度、電流密度、沉積時間等。這些參數的選擇與金屬導電膜的...

  • 2023

    7-4

    隨著科技的不斷進步,徠卡超薄切片機在醫療領域的應用逐漸增多。為了提高工作效率和操作人員的舒適度,人體工學設計成為超薄切片機設計中的重要考慮因素。本文將重點討論超薄切片機的人體工學設計及其對操作人員的影響。一、超薄切片機的人體工學設計原則1.人機工程學原則:超薄切片機的設計應考慮人體使用該設備的特性和需求,例如人體的尺寸、力量和靈活性等。2.動作流程優化:切片機的各個操作部位應根據操作的流程順序進行布局,以減少不必要的動作。3.操作界面設計:切片機的界面應簡單直觀,按鈕和控制器...

  • 2023

    6-8

    鍍膜儀是一款多功能型高真空鍍膜系統,用于制備超薄,細顆粒的導電金屬膜和碳膜,以適用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的鍍膜要求。這一款全自動臺式鍍膜儀,包含內置式無油真空系統、石英膜厚監控系統和馬達驅動樣品臺。鍍膜儀常見的幾個真空鍍膜方式如下:1.磁控濺射鍍膜磁控濺射是一種常用的真空鍍膜技術,它利用磁場將靶材料離子化并沉積在基底表面上。這種技術可用于制備金屬、合金、氧化物、硝化物等多種材料的薄膜。該技術具有高沉積速率、較好的均勻性和附著力等優點。2.熱蒸發鍍膜熱蒸發是一...

  • 2023

    5-8

    徠卡超薄切片機可以進行半薄和超薄切片,為光學顯微鏡,透射電子顯微鏡,掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡提供的切片。符合人體工程學的外觀設計,內部精密機械設計,直觀的觸摸屏控制面板設計。超薄切片機控制面板是一種用于控制切片機的設備,其主要功能是調節切片機的運行參數和監測機器狀態。通常由顯示屏、按鍵、旋鈕和指示燈等組成。其中,顯示屏用于顯示機器的運行狀態和參數設置;按鍵和旋鈕用于操作和調節機器的運行參數;指示燈則用于提示用戶機器的工作狀態。一、控制面板的功能1.參數調節控制面板可以通過...

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